2001/8/21 第25号
エレショー技報             (有)安部実装技術研究所

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内容
■コンプレッサードレン処理装置(電源必要なし)
■海外SMT技術情報 「 導電接着剤封入ビア基板&銅カバー」
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■コンプレッサードレン処理装置(電源必要なし) (株)フクハラ

フィルター方式でドレン中のオイルを除去し、油分5ppm(納入実績平均1〜
2ppm)を達成しています。まったく電源を必要としないことから、配線工事が
不必要で、ランニングコストも著しく安価となります。

詳細は www.eleshow.com/ の7-5-1をご覧下さい。
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■海外SMT技術情報
   「導電接着剤封入ビア基板&銅カバー」  

MfVia技術は1995年に開発されたユニークな光ビアプロセスであり、感光性
絶縁体(PID)と導電性接着剤を使用して各々絶縁層とビア内部接続を形成
する。それによってMfVia法は、ドリル穴あけコストを省き、ビア寸法を縮
め、回路密度を増大する。
MfVia技術はBGA基材の製造に適用され、Viper BGA(VBGA)やCopper Core
BGA(C2BGA)などに使われている。この報告では構造、製造プロセス、
MfViaとVBGAの利点や性能を述べる。また使用される材料や信頼性データを
詳しく議論する

MfViaとVBGAの構造&プロセス
VBGAはキャビティーダウンBGA基材である。図1と図2にプロセスと構造を示
した。VBGAには数種類のタイプがあるが、ここでは標準的プロセスを示し
た。MfVia技術による多層配線は銅基材の上に繰返し積み重ねられる。最初
にPIDがスクリーン印刷され、予備硬化、感光と現像、光ビアにプリンター
で銀ペーストが充てんされる。ついで真空プレスで銅箔を付着させる。表
面層の回路が印刷とエッチングで作られる。このようにして多層積層回路が
形成される。
VBGAはIC接続に必要なNi/Au層をパネル(全面)メッキで形成する。エッチ
ングレジストを使って表層配線を形成し、はんだマスクを適用する。
VBGAはキャビティーダウン製品なので、この段階でワイヤボンドする。そ
の後VBGAはヒートシンクとして組み立てられる。

高密度
MfVia技術は光技術であり、ビア寸法は0,13〜0,25mmである。ビアパッドも
(0,23〜0,38mm)と小さい。加えてビアのメッキも不要であり、配線を高
密度にすることが容易である。
Prolinx社は将来のFCをにらんだVia設計を検討している。

パワー、アース面が回路層の追加なしで使用でき、高密度である。銅の芯材
が回路を強化し、ヒートシンクとなる。その結果熱特性が向上する。
自己キャパシタンス、インダクタンスが低い
VBGAの自己キャパシタンス 0,02〜0,38nF
VBGAの自己インダクタンス 0,46〜7,1nH
(35×35mm VBGA、1,25GHz領域)
従ってVBGAは高周波適合性が良い。
強化された熱対策
Agペースト材料への基本的要求は:
MfViaの信頼性
VBGA基材の信頼性
VBGAパッケージの信頼性
VBGAのファミリー
C2BGA
(あとがき)

より詳しくは、www.eleshow.com/ の海外技術情報をクリックし、2001.
8.21月号
をご覧下さい。
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