2001/10/31 第32号
エレショー技報              (有)安部実装技術研究所
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内容
■TFスーパーメタル(ソルダーペースト抜け性抜群のメタルマスク)
■海外SMT技術情報  「高周波用パッケージ材料」 
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■「TFスーパーメタル」     ランクトラスト(株)

メタル開口壁面ならびにステンシル裏面(基板側)に特殊化学処理とテフロ
ンコート処理を施したメタルマスクです。未半田、カスレ及び半田ブリッジ
の無い驚異の抜け性を実現し、クリーニングなしで連続印刷200枚以上を達
成しました。ステンシルはSUS304使用し、きめ細かいメタル厚さに対応して
います。
また、「印刷プレート」「基板搬送パレット」など、実装用治具も設計か
ら行い、タイムリーにご提供し、実装生産を幅広くサポートしています。
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■海外SMT技術情報     「高周波用パッケージ材料」

要 旨
無線と光通信が急速に拡大し、高周波パッケージ材料技術の重要性が一層重
要となっている。即ち、より厳しい信号の完全性とEMC/EMIの要求であり、
それはまた材料選択やプロセス条件によって影響される。重要な材料は、
はんだバンプやボンディングワイヤーなどの導電性材料およびアンダーフ
ィル、保護コート材、成型材料、回路とパッケージ基材材料等の誘電材料
である。
高周波デバイス特性に与える誘電パッケージ材料の影響を、3種類のパッケ
ージ基材材料について説明する。特にパッケージ基材材料の誘電定数、損
失、減衰の周波数依存性を検討した。18GHz間での実測データを、解析的モ
デル予測および三次元計算結果に対比した。

序 言
高周波電子製品は、歴史的には軍用レーダーや衛星などのニッチ的応用が
主体であったが、最近は消費者用デジタル無線や光通信の中核部品として
主流となってきた。
CMOS半導体が1 GHz領域を超えるにつれ、パッケージ材料のインダクタンス
とキャパシタンスがあたかもIC中の集積回路の一部となり、ICとパッケージ
の調和のとれた設計が必要になっている。
OC192 SOMETでは10GHzが実現し、次世代は40GHzとのことであるが、全体の
パッケージ設計が大きな問題となっている。高周波パッケージの最重要点と
して、パッケージ材料の高周波特性、電気的寄生、インピーダンスマッチン
グ、モデル化などの点があげられる。
高周波パッケージングは、異なる材料を持つ3種のタイプに分けられる。第1
は、伝統的な無線周波パッケージで、アルミナや低温共焼成セラミック
(LTCC)を用いるセラミックベースである。第2は高密度プロセッサーであ
り、高密度マルチチップモジュール(MCM)やマイクロプロセッサー用材料
である。これにはポリイミド、ポリベンゾシクロブテン、その他のポリマー
が使われる。第3は低価格の消費者用であり、代表的にはビスマレイミドト
リアジン(BT)が標準的BGAパッケージに見出されている。
高周波応用にその他多くの材料が使用できる。ポリテトラフルオロエチレン
(PTFE、テフロン)を使用した材料があげられる。これらの材料はしばしば
実験室で使われるが、機械的安定性と接着に問題がある。
本報では、いくつかのパッケージ材料の誘電定数の周波数依存性、損失、減
衰を提供する。18GHzまでの実験データを、解析的モデル予測および3次元計
算結果と比較する。

背 景
導体は場によって取り囲まれているので、導体の上下左右の材料は信号と相
互作用する。上にある材料の例は成型剤やソルダーレジストであり、左右と
下は基材材料であろう。
電磁場が各新材料にかかると信号の一部は減衰し、信号の周波数成分の位相
分散するであろう。同じ周波数の信号が、異なる材料中では誘電定数の変化
により異なる速度で進行する。金属材料では表面抵抗が重要になる。なぜな
ら電流は導体線の表面に集まるからである。
信号の速度が材料によって変わることに加えて、種々の材料の特性が周波数
によって異なる。注目すべき物性は、相対的誘電定数(εγ)と誘電正接
(tanδ)である。材料が異なると必然的に構造も異なる。図1は、代表的な
多層セラミック構造で、高周波モジュールに使われる。図2はポリイミド多
層構造、図3は標準的BT積層構造である。
   図2、3、4(略)

解析的モデル
細線セラミックシステムに対する解析モデルが開発された。
(1)図4はその構造であり、このモデルは次にポリイミド用に拡張された。
誘電体と金属に損失は、周波数の関数としてそれぞれモデル化した。式(1)
はHammerstadとBekkadahlによる導体ベースのモデル式である。(1)式で、
w、h、tは導体幅、誘電体厚さ、導体厚さであり、fは周波数、Z0はインピー
ダンスである。
   (1)式(略)
BahlとBhartiaによる誘電体モデルは(2)式で表わされる。
   (2)式 (略)
ここで有効誘電定数εeffは次式で与えられる。
誘電体と導体による減衰の結合は(3)式で表わされる。
   αT = αc + αd            (3)
ここでは放射損失は含まれていない。それらの影響は三次元のモデル化の中
で説明される。

材料データ
 図5にアルミナと低温ガラスセラミック(CaO-B2O3-SiO2)の実験データと
式(3)の比較を示した。優れたマイクロ波特性を持つ銀を導体とした。測定
はHP8510回路網解析器によって行った。図6はポリイミド〜アルミニウム
(金属化)に対する同様なプロットである。アルミニウムは加工の容易さに
より(薄いフィルム配線)選ばれた。
   図5、6、7(略)
図7は、BT材料における損失の範囲である。
高周波損失のデータは少なく、いくつかの製造者が限られた情報を提供して
いる。低温セラミックに関して京セラ、Ferro Co., DuPondtが多少のデータ
提供している。その他、ペンシルバニア大学材料研究所の誘電体研究センタ
ーからの報告としてデータが入手できる。この分野での各種の報告も有用で
ある。セラミック:塚本、薄いフィルム:Collet、積層体:Lyer。von
Hippelの広範囲な編集は、今なお誘電損失の最も多岐にわたるデータ集であ
る。
          
より詳しくは、www.eleshow.com/ の海外技術情報をクリックし、2001.
10.31月号をご覧下さい。■頁にわたり図表入りで詳しく書いてあります。
また、全文をお読みになりたい方は、10月16日に発刊しました「2001最新
海外FC/CSP実装技術」をお求めください。(A4版100頁\48,000)
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